クオルテック

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トータルクオリティソリューションの「クオルテック」


未来品質 トータル・クオリティ・ソリューション

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お知らせ

展示会情報「マイクロウェーブ展2018」に最新技術を出展

11月28日(水)~11月30日(金)に開催される「マイクロウェーブ展2018」に出展します。

「マイクロウェーブ展2018」に最新技術を出展

お知らせ 12GHz帯バンドパスフィルタ試作

クオルテックの独自技術である、レーザ/めっき技術の応用として12GHz帯でのバンドパスフィルタをテフロン板上に試作しました。

12GHz帯バンドパスフィルタ試作

お知らせ 難めっき素材へのめっき密着

レーザ加工と特殊な表面処理を組合せることで、難めっき材料にめっきを密着させる技術を開発しました。

難めっき素材へのめっき密着

事例紹介

微細加工12GHz帯バンドパスフィルタ試作

クオルテックの独自技術である、レーザ/めっき技術の応用として12GHz帯でのバンドパスフィルタをテフロン板上に試作しました。
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12GHz帯バンドパスフィルタ試作

微細加工難めっき素材へのめっき密着

レーザ加工と特殊な表面処理を組合せることで、難めっき材料にめっきを密着させる技術を開発しました。
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難めっき素材へのめっき密着

微細加工フェムト秒レーザ加工

フェムト秒レーザでの加工は非熱的加工となり、被加工物に対して熱影響の少ない(無い)加工が可能となります。
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フェムト秒レーザ加工

品質技術

分析・評価技術半導体デバイスの電気的破壊試験と故障解析

再現実験を行い、破壊ストレスと破壊の因果関係を明らかにします。代表的な破壊要因として、EOS破壊とESD破壊の再現実験を行いました。 PDFはこちら

半導体デバイスの電気的破壊試験と故障解析

実装技術高温動作環境下におけるはんだ付け部の信頼性

接合部が高温になるパワーエレクトロニクス等の製品で、高温環境でのはんだ付け箇所の問題点を概説します。 PDFはこちら

高温動作環境下におけるはんだ付け部の信頼性

実装技術ギ酸還元はんだ付けと真空、加圧リフローの効果

ギ酸を用いたフラックスレスはんだ付けの試験結果および、真空、加圧下でのボイド調査の一部をご紹介します。 詳細はこちら

ギ酸還元はんだ付けと真空、加圧リフローの効果

セミナー/社内勉強会


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本社・分析センター 大阪府堺市堺区三宝町
4丁231-1
TEL:072-226-7175
FAX:072-226-7176
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