分析・故障解析

X線光電子分光法を用いた分析手法

設備・サービス概要

X線光電子分光法（XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy）は、試料表面（最表面～数nmの深さ）の元素分析・化学状態分析を行う手法です。
化学結合状態を評価できることから、ESCA（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）とも呼ばれています。
絶縁物の測定が可能なため、金属・半導体・高分子・セラミック・ガラス等さまざまな材料に適用できます。
表面分析の中でも多用されている手法の一つであり、材料の研究開発や不良解析に利用されています。

●分析項目
・表面の組成分析（定性・定量）・・・ワイドスキャン、ナロースキャン
・化学シフトによる結合状態評価・・・ナロースキャン、波形分離
・イオンスパッタを使用した深さ方向の組成分析・・・デプスプロファイル
・X線を走査することにより面分析（マッピング）や線分析も可能

●分析用途
・表面汚染の評価
・表面改質による高分子の官能基評価
・金属の価数評価
・酸化・水酸化物等結合状態の評価
・酸化膜厚値の算出（SiO2換算）
・剥離・変色の原因調査
・はんだ濡れ不良解析
・多層膜試料の膜厚算出（SiO2換算）

その他の観察事例はこちらをご覧下さい▼
XPS・AES解析事例および設備概要(PDF)